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面向“中国大学生机械工程创新创意大赛—微纳传感技术与智能应用赛”开放设备的通知

发布时间:2021-03-30


   2021中国大学生机械工程创新创意大赛—“明石杯第二届微纳传感技术与智能应用赛报名系统已经上线。

  为激励本校本科生积极参与,机械制造系统工程国家重点实验室提供设备支持,鼓励学生开展科技活动,培养学生的专业兴趣。

主要提供以下设备支持:

设备名称

技术参数

功能

磁控溅射机

三个3英寸靶枪; 不锈钢真空室; 配有可加温至400℃(故障),可旋转的6英寸工作台;溅射材料: CuNiAlTiCrWuPd

主要用于微纳研究中各类薄膜的加工制作。

光刻机

最小线条:0.6μm;光强均匀性:±2%CCD放大倍数:9X-600X;套刻精度:± 0.5μm;背面对准精度:±1μm

适用与各种类型的光刻胶及Dry-filmBCBPolyimideSU-8 适用GHI线及深紫外曝光。

深干法刻蚀机

ICP离子源:0-3000W   RF射频源:0-600W 装片:1片四英寸,刻蚀速率:>2.5μm/min;选择比:>75:1(PR),>150:1(SiO2);深宽比:>30:1;不均匀性:<±5%;侧壁陡直度:90 °±1°

可采用Bosch工艺对4英寸硅片、SOI片进行深刻蚀加工,采用Cryo工艺进行低温等离子体深刻蚀加工。

电子束蒸发台

1.薄膜均匀性在4英寸范围内优于±5% 2.水冷坩埚的数目为6个,坩埚的容量25cc 3.自动坩埚导位功能,可以蒸镀多层膜;   4.Inficon薄膜沉积全自动控制,厚度实时测量。

主要沉积金属薄膜,如金、铂、银、铝、铜、铬、钛、镍等材料。

喷胶机

基片旋转速度最大为 10000 /分,旋转加速度最大为40000rpm/sec

可对深几何结构进行均匀涂胶。

扫描电子显微镜

高真空条件下在25KV下二次电子成像分辨率为3.0nm;背散射电子成像分辨率为4.0nm

针对MEMS结构,金属、陶瓷、复合材料等可进行材料表面及断口形貌观察,微观组织观察,微小几何量测量。

激光共聚焦显微镜

水平方向分辨率可达0.12μmZ轴方向分辨率达0.01μm100x100   mm 超声波电动载物台,可实现最多500幅图像自动拼图。

微观形貌的观测。

设备使用基本条件

1.登录学校大型仪器设备物联共享系统进行相关设备的预约,网站:http://equip.xjtu.edu.cn/home/

2.预约学生需持大赛报名信息可减免设备使用费用。

大赛官网:http://mnems.xjtu.edu.cn/

大赛咨询电话:029-82663008

设备预约使用咨询电话:029-83395052, 83395005

国重地址:西安市雁翔路99号交大曲江校区西五楼

 

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